特許
J-GLOBAL ID：200903099304889235

プラズマ処理装置

発明者：
新井 宏之

新井 宏之 について

, 
輿水 地塩

輿水 地塩 について

, 
本郷 俊明

本郷 俊明 について

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太田 与洋

太田 与洋 について


出願人/特許権者：
新井 宏之

新井 宏之 について

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東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-137794
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319884
出願日： 2000年05月10日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 構造が比較的簡単なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 真空引き可能になされた処理容器22内に高周波電力を導入してプラズマを発生させ、このプラズマを用いて被処理体Wに対して所定の処理を施すようにしたプラズマ処理装置において、前記高周波電力を前記処理容器内へ導入するために、前記処理容器の天井部にダイポールアンテナ42を設けるようにする。これにより、構造が比較的簡単化可能とする。
請求項（抜粋）：
真空引き可能になされた処理容器内に高周波電力を導入してプラズマを発生させ、このプラズマを用いて被処理体に対して所定の処理を施すようにしたプラズマ処理装置において、前記高周波電力を前記処理容器内へ導入するために、前記処理容器の天井部にダイポールアンテナを設けるようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/205 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065 ,  H01Q 13/10 ,  H01Q 21/20 ,  H05H 1/46
FI (7件)：
H01L 21/205 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H01Q 13/10 ,  H01Q 21/20 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B
Fターム (61件)：
4G075AA24 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC25 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030KA15 ,  4K030KA22 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB21 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BD04 ,  5F004CA01 ,  5F045AA09 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045CA15 ,  5F045EC05 ,  5F045EF08 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH20 ,  5F045EJ02 ,  5F045EJ09 ,  5F045EM02 ,  5F045EM03 ,  5F045EM05 ,  5F045EM09 ,  5J021AA05 ,  5J021AA10 ,  5J021AA11 ,  5J021AB03 ,  5J021AB05 ,  5J021DA04 ,  5J021FA32 ,  5J021GA03 ,  5J021JA07 ,  5J045AA21 ,  5J045AB05 ,  5J045BA01 ,  5J045DA06 ,  5J045DA09 ,  5J045EA08 ,  5J045FA02 ,  5J045GA03 ,  5J045HA03 ,  5J045JA03 ,  5J045LA07
引用特許：
審査官引用 (3件)

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