特許

J-GLOBAL ID：200903099307155887

プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法

発明者： 高見 芳夫
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295282
公開番号（公開出願番号）：特開2000-124198
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】 エッチングの処理状態を高いS/N比でモニタし、エッチングの終点検出を高いS/N比で行う。【解決手段】 プラズマエッチングにおいて、エッチングガスを天然に存在する元素の同位体組成比と異ならせる、あるいは、検出物質に含まれる元素の少なくとも一つの種類の元素について、エッチングガス、エッチング対象物等を構成する元素の同位体組成比を異ならせる。この同位体組成比を異ならせることによって、質量分析で検出される同じ原子組成の検出物質について、エッチング処理の段階に応じて質量に差を生じさせることができる。質量分析によって、エッチング対象物から得られる検出物質とエッチング対象物以外から得られる検出物質とを区別して検出し、これによって、エッチング対象物の変化をノイズ信号の影響を受けずに検出し、エッチングの処理状態を高いS/N比でモニタする。

請求項（抜粋）：

真空を保持する構造を有する処理室と、前記処理室にエッチングガスを導入し、前記処理室を所定の圧力に制御するガス供給系及び真空排気系と、前記処理室にプラズマを発生し維持する手段と、前記処理室内のガスを質量分析する質量分析計とを備え、前記ガス供給系は、天然に存在する元素の同位体組成比と異なる原子組成を含むエッチングガスを供給し、同位体組成比の変化によるガス質量の変化に基づいてエッチング処理をモニタするプラズマエッチング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  G01N 27/62

FI (3件)：

H01L 21/302 E ,  C23F 4/00 F ,  G01N 27/62 B

Fターム (39件)：

4K057DA02 ,  4K057DA11 ,  4K057DA14 ,  4K057DB01 ,  4K057DB04 ,  4K057DB05 ,  4K057DB20 ,  4K057DD01 ,  4K057DD03 ,  4K057DD05 ,  4K057DE04 ,  4K057DE06 ,  4K057DE08 ,  4K057DE20 ,  4K057DG20 ,  4K057DJ06 ,  4K057DM02 ,  4K057DM05 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA06 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004CA09 ,  5F004CB04 ,  5F004DA01 ,  5F004DA11 ,  5F004DA18 ,  5F004DA24 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00 ,  5F004DB03 ,  5F004DB08 ,  5F004DB09 ,  5F004DB16