特許
J-GLOBAL ID：200903099312952302
電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-303627
公開番号（公開出願番号）：特開平10-128254
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】 LSI等の電子部品部材類の製造時等において、シリコンウエハ等の表面に付着した有機物を除去するための従来法では、洗浄に使用する薬品や洗浄後のすすぎのための超純水が多量に必要となり、また使用済みの薬品や超純水を多量に処理しなければならないため、製造コストが高くつくという問題があった。本発明は、薬品や超純水コストや使用済みの薬品や超純水処理コスト等の低減化に貢献でき、確実且つ容易に電子部品部材類を洗浄することのできる洗浄方法及び洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明方法は、超純水にオゾンガスを溶解してなる正の酸化還元電位を有するアルカリ性洗浄液により、電子部品部材類を洗浄することを特徴とするもので、本発明洗浄装置は超純水製造装置1と、超純水中にオゾンガスを溶解させるためのガス溶解槽2と、溶液をアルカリ性に調整するためのpH調整装置3と、超純水にオゾンガスを溶解した正の酸化還元電位を有するアルカリ性洗浄液で電子部品部材類6を洗浄する洗浄槽4とから構成される。
請求項（抜粋）：
電子部品部材類を、超純水にオゾンガスを溶解せしめてなり、且つ正の酸化還元電位を有するアルカリ性洗浄液により洗浄することを特徴とする電子部品部材類の洗浄方法。
IPC (3件)：
B08B 3/08
, B08B 3/12
, H01L 21/304 341
B08B 3/08 Z
, B08B 3/12 A
, H01L 21/304 341 L
