特許

J-GLOBAL ID：200903099317187027

反射型マスク

発明者： 和佐 若菜 ,  清水 澄人 ,  村上 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-114781
公開番号（公開出願番号）：特開平9-298150
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 多層膜の反射率の低下を防ぎ、かつ吸収体層を電気分解法を用いて除去する場合にも多層膜がダメージを受けず、繰り返しリペアを行うことができる反射型マスクを提供する。【解決手段】 少なくとも、基板上に設けたX線反射多層膜と、該多層膜上に所定パターンにて設けたX線吸収体層とを有するX線反射型マスクにおいて、前記X線反射多層膜と前記X線吸収体層との間に、化学的に安定で、かつ導電性を有する被覆層を設けたことを特徴とするX線反射型マスク。

請求項（抜粋）：

少なくとも、基板上に設けたX線反射多層膜と、該多層膜上に所定パターンにて設けたX線吸収体層とを有するX線反射型マスクにおいて、前記X線反射多層膜と前記X線吸収体層との間に、化学的に安定で、かつ導電性を有する被覆層を設けたことを特徴とするX線反射型マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 574