特許
J-GLOBAL ID：200903099322668041
位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-301129
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148865
出願日： 1992年11月11日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：
【要約】【構成】 位相シフタによってパターニングされている光露光プロセスに用いる位相シフトマスクであって、パターンの一部の位相シフタが、露光光の波長と同程度の寸法だけ除去されている位相シフトマスク。【効果】 余分な光の回折が抑制され、光の平面的な強度分布を変化させることができる。従って、露光されたレジストパターンのシフトを抑制することができる。従って、本発明に係わる位相シフトマスクを用いて露光を行うことにより、マ微細で信頼性の高いパターン加工を行うことが可能となる。
請求項（抜粋）：
位相シフタによってパターニングされている光露光プロセスに用いる位相シフトマスクであって、パターンの一部の位相シフタが、露光光の波長と同程度の寸法だけ除去されていることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
