特許
J-GLOBAL ID:200903099326139086
基板洗浄システム
発明者:
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出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
佐野 章吾 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-307606
公開番号(公開出願番号):特開2001-223196
出願日: 2000年10月06日
公開日(公表日): 2001年08月17日
要約:
【要約】【課題】 枚葉式ウェット洗浄の利点を生かし、高い清浄度雰囲気での洗浄を高精度に行なうことができ、装置構成も単純かつコンパクトでコストパーフォーマンスに優れた基板洗浄システムを提供する。【解決手段】 密閉可能に構成された装置本体1内に、洗浄処理前のウェハWが搬入待機する基板搬入部Aaおよび洗浄処理後のウェハが搬出待機する基板搬出部Abとからなるローディング・アンローディングブースAと、ウェハWを一枚ずつ洗浄処理する二つの枚葉式基板洗浄チャンバ10を備える処理ブースCと、両ブースA,C間でウェハWを一枚ずつ移載する移載ロボット70を備えるロボットブースBとが設けられてなり、これら各ブースA,B,Cが必要最小限度の開口面積を有する隔壁2,3をもって区画形成されている。
請求項(抜粋):
密閉可能に構成された装置本体内に、洗浄処理前の基板が複数枚ストックされて搬入待機する基板搬入部および洗浄処理後の基板が複数枚ストックされて搬出待機する基板搬出部とからなるローディング・アンローディングブースと、基板を一枚ずつ複数の洗浄液で洗浄処理する少なくとも一つの枚葉式基板洗浄チャンバを備える処理ブースと、この処理ブースと前記ローディング・アンローディングブースの間で基板を一枚ずつ移載する移載ロボットを備えるロボットブースとが設けられてなり、これら各ブースが必要最小限度の開口面積を有する隔壁をもって区画形成されていることを特徴とする基板洗浄システム。
IPC (7件):
H01L 21/304 648
, H01L 21/304
, B08B 3/02
, B08B 3/04
, B08B 3/08
, B25J 9/06
, H01L 21/68
FI (8件):
H01L 21/304 648 A
, H01L 21/304 648 K
, H01L 21/304 648 L
, B08B 3/02 A
, B08B 3/04
, B08B 3/08 Z
, B25J 9/06 D
, H01L 21/68 A
Fターム (68件):
3B201AA03
, 3B201AB34
, 3B201AB42
, 3B201BB22
, 3B201BB32
, 3B201BB45
, 3B201BB93
, 3B201BB95
, 3B201BB99
, 3B201CB12
, 3B201CC01
, 3B201CD41
, 3F060AA01
, 3F060AA07
, 3F060AA08
, 3F060CA21
, 3F060EB02
, 3F060EB12
, 3F060EC02
, 3F060FA02
, 3F060HA12
, 3F060HA28
, 3F060HA35
, 5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA09
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA14
, 5F031FA21
, 5F031GA03
, 5F031GA06
, 5F031GA08
, 5F031GA13
, 5F031GA14
, 5F031GA15
, 5F031GA36
, 5F031GA38
, 5F031GA44
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031HA24
, 5F031HA27
, 5F031HA29
, 5F031HA48
, 5F031HA59
, 5F031JA02
, 5F031JA05
, 5F031JA13
, 5F031JA23
, 5F031JA25
, 5F031JA30
, 5F031KA02
, 5F031KA03
, 5F031LA13
, 5F031LA15
, 5F031MA03
, 5F031MA11
, 5F031MA23
, 5F031NA02
, 5F031NA16
, 5F031NA18
, 5F031PA08
, 5F031PA21
, 5F031PA23
引用特許:
審査官引用 (11件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-328684
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板洗浄方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-357105
出願人:株式会社スガイ
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半導体洗浄装置及びウエハカセット
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-225611
出願人:三菱電機株式会社
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特開昭59-195647
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処理方法及び塗布現像処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-252316
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板の処理装置及び処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-083490
出願人:芝浦メカトロニクス株式会社
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金属部品洗浄用容器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-033599
出願人:古河電気工業株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-333984
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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エアシャワ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-254496
出願人:株式会社日立製作所
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ベーパー洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-070070
出願人:住友金属工業株式会社
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特開昭59-195647
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