特許
J-GLOBAL ID:200903099326156266

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-187083
公開番号(公開出願番号):特開2000-017426
出願日: 1998年07月02日
公開日(公表日): 2000年01月18日
要約:
【要約】【課題】 薄板を冷却支持部に密着させ、薄板を十分に冷却できる成膜装置を提供する。【解決手段】 膜源20の上に配置され、所定の温度範囲内に維持された冷却支持部としての冷却ロール241と、有機物フィルム500が冷却ロール141上に密着するように有機物フィルム500を冷却ロール141側に押し付けるための押し付け機構としての対のテンションロール42aおよび42bを有する温度管理機構を有している。冷却ロール141は、シリコン樹脂からなり、柔軟性を有し、さらに膜源20側に突出する表面形状を呈するクッション層141bを備えている。
請求項(抜粋):
膜源に用意した膜材料を蒸発させて有機物からなる薄板に膜を形成する成膜装置であって、前記薄板を所定の温度に維持するための温度管理機構を有する成膜装置において、前記温度管理機構は、前記膜源の上に配置され、所定の温度範囲内に維持された冷却支持部と、前記薄板が前記冷却支持部上に密着するように前記薄板を前記冷却支持部側に押し付けるための押し付け機構とを有し、前記冷却支持部は、主にシリコン樹脂または柔軟性を有する金属からなり、前記膜源側に突出する表面形状を呈することを特徴とする成膜装置。
IPC (3件):
C23C 14/24 ,  C23C 14/20 ,  C23C 14/56
FI (4件):
C23C 14/24 K ,  C23C 14/20 Z ,  C23C 14/56 A ,  C23C 14/56 F
Fターム (12件):
4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA03 ,  4K029BA08 ,  4K029BA10 ,  4K029BA15 ,  4K029BA26 ,  4K029CA01 ,  4K029DA08 ,  4K029EA08 ,  4K029JA10 ,  4K029KA01
引用特許:
審査官引用 (8件)
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