特許
J-GLOBAL ID:200903099362574147

複合酸化物薄膜及びその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 友松 英爾 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-353219
公開番号(公開出願番号):特開平6-171939
出願日: 1992年12月11日
公開日(公表日): 1994年06月21日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、エレクトロニクスの分野で使用される高品位の結晶化複合酸化物薄膜および該結晶化複合酸化物薄膜の製造法の提供にある。【構成】 結晶化複合酸化物薄膜が、該薄膜の結晶化前のアモルファス状または微結晶状薄膜の組成に比し、ずれを補充する組成のもので構成されていることを特徴とする結晶化複合酸化物薄膜および該結晶化複合酸化物薄膜の製造法。
請求項(抜粋):
結晶化複合酸化物薄膜が、該薄膜の結晶化前のアモルファス状または微結晶状薄膜の組成に比し、ずれを補充する組成のもので構成されていることを特徴とする結晶化複合酸化物薄膜。
IPC (4件):
C01G 23/00 ,  B01J 19/00 ,  C01G 29/00 ,  H01L 41/24
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平2-192403
  • 強誘電体薄膜の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-240908   出願人:セイコーエプソン株式会社

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