特許
J-GLOBAL ID:200903099371579380

膜厚測定方法およびその方法を用いた膜厚センサ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 由充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-273830
公開番号(公開出願番号):特開2002-081910
出願日: 2000年09月08日
公開日(公表日): 2002年03月22日
要約:
【要約】【課題】 膜厚を測定するのに最適な受光出力が得られるような調整を自動的に行い、高精度の膜厚測定を行う。【解決手段】 膜厚の測定処理に先立ち、測定対象の基板およびその膜についての光学特性に関するデータが入力されると、制御部22は、この基板に光を照射したときに得られる理論上の反射スペクトルとレファレンス基板により得られる既知の反射スペクトルとの関係を特定する。ついでレファレンス基板に光が照射されると、制御部22は、前記特定した関係に基づき、受光部6からの受光出力の最大値または最小値がA/D変換のダイナミックレンジ内の所定値に合うように受光出力のレベル調整を行う。
請求項(抜粋):
表面に薄膜が形成された基板に所定の波長域に分布する光を照射するとともに、前記基板からの反射光または透過光を所定波長単位に分光して複数の受光素子により受光し、各受光素子からの出力信号の特性に基づき前記基板の薄膜の厚みを測定する方法において、各受光素子に既知の特性をもつ光を受光させるレファレンス基板についての前記光の既知の特性と各受光素子が測定対象の基板より受光する光の理論上の特性との関係を、前記測定対象の基板およびその膜の光学特性に基づき特定するステップと、前記レファレンス基板に前記波長域の光を照射しつつ、この照射光に対する各受光素子の出力信号のレベルがレファレンス基板と測定対象の基板との間の前記光の特性の関係に基づく所定のレベルになるように、前記照射光の強度および受光感度の少なくとも一方を調整するステップとを、前記測定処理に先立ち実行することを特徴とする膜厚測定方法。
IPC (2件):
G01B 11/02 ,  H01L 21/66
FI (2件):
G01B 11/02 G ,  H01L 21/66 P
Fターム (31件):
2F065AA30 ,  2F065CC31 ,  2F065DD06 ,  2F065FF61 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL03 ,  2F065LL04 ,  2F065LL20 ,  2F065LL22 ,  2F065LL30 ,  2F065LL67 ,  2F065NN12 ,  2F065NN13 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ29 ,  2F065SS13 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31 ,  4M106DH40 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ23

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