特許
J-GLOBAL ID:200903099371880242

ミスト発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-151990
公開番号(公開出願番号):特開2009-297088
出願日: 2008年06月10日
公開日(公表日): 2009年12月24日
要約:
【課題】ミストとともに光を照射することにより効率よく美肌効果を得られることができるミスト発生装置を提供する。【解決手段】制御用CPUは、ミストの発生が開始してから所定時間(3分)経過後、赤色LEDによりミストが吹き付けられる使用者の肌に光を照射させる。また、制御用CPUは、ミストの発生が終了した場合でも、所定時間(5分)経過するまで、赤色LEDにより使用者の肌に光を照射させるようにしている。【選択図】図3
請求項(抜粋):
液体を霧状にしてミストを発生させるミスト発生手段と、 前記ミスト発生手段により発生されるミストを噴出するミストノズルと、 ミストが噴出される場所に対して光を照射する光照射手段と、 前記光照射手段による光の照射を制御する制御手段を備え、 前記制御手段は、前記ミスト発生手段によるミストの発生が開始した後に、前記光照射手段を発光させる一方、前記ミスト発生手段がミストの発生を終了した場合でも、前記光照射手段を継続して発光させることを特徴とするミスト発生装置。
IPC (2件):
A61H 33/12 ,  A61N 5/06
FI (5件):
A61H33/12 V ,  A61H33/12 B ,  A61H33/12 K ,  A61H33/12 P ,  A61N5/06 Z
Fターム (21件):
4C082PA02 ,  4C082PC10 ,  4C082PE10 ,  4C082PJ04 ,  4C082PJ05 ,  4C082PJ10 ,  4C082PJ21 ,  4C082PL10 ,  4C094AA04 ,  4C094BA16 ,  4C094BA18 ,  4C094BA19 ,  4C094DD09 ,  4C094DD34 ,  4C094EE03 ,  4C094EE08 ,  4C094EE09 ,  4C094EE31 ,  4C094FF02 ,  4C094FF16 ,  4C094GG06
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 美容装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2006-169019   出願人:東芝ライテック株式会社
審査官引用 (3件)
  • 美容装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2006-169019   出願人:東芝ライテック株式会社
  • 美容装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-295097   出願人:増田勝利
  • 美・理容装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-087909   出願人:株式会社ピジョン

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