特許

J-GLOBAL ID：200903099390480662

Nd:YAGレーザを使用するガラス上へのレーザスクライビング

発明者： ジョン・エー・リッチマン
出願人/特許権者： サンタ・バーバラ・リサーチ・センター
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-216462
公開番号（公開出願番号）：特開平9-192857
出願日： 1996年08月16日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、基板に吸収されない波長のレーザ放射によって透明ある意は反射性のガラス等の基板に画像を彫刻する方法および装置を提供することを目とする。【解決手段】 特有の出力波長を有するレーザ等電磁エネルギのソース12と、表面に画像を彫刻する基板18とを設け、特有の出力波長を強力に吸収する材料の層16を基板18の表面18a に設け、吸収材料の層16と前記基板の表面との間の境界面あるいはその近くに位置された焦点にソース12の出力をレンズ14等によって集中させ、移動段20によって焦点に関して表面18a を移動させ、吸収材料の層16はソース12の出力を吸収して加熱されて焦点の下にある表面18a を彫刻するのに十分な温度にされることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板の表面にパターンを彫刻する方法において、特有の出力波長を有する電磁エネルギのソースを設け、基板を設け、前記特有の出力波長を強力に吸収するように選択された吸収材料の層を基板の表面に設け、前記吸収材料の層と前記基板の表面との間の境界面あるいはその近くに位置された焦点にソースの出力を集中させ、焦点に関して表面を移動させ、そこにおいて、前記吸収材料の層はソースの出力を吸収して加熱され、焦点の下にある表面を彫刻するのに十分な温度にされるステップを含んでいる基板の表面にパターンを彫刻する方法。

IPC (7件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/18 ,  B41M 5/26 ,  G02B 27/00 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/16

FI (9件)：

B23K 26/00 D ,  B23K 26/00 G ,  B23K 26/06 A ,  B23K 26/06 Z ,  B23K 26/18 ,  H01S 3/00 B ,  H01S 3/16 ,  B41M 5/26 S ,  G02B 27/00 F

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-215394
  
• 特開昭62-282795