特許
J-GLOBAL ID：200903099404507313
高分子材料中の添加剤分析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-212047
公開番号（公開出願番号）：特開2004-053440
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】高分子材料に含まれる添加剤の定性分析又は定量分析を簡便でしかも迅速に精度良く行う。【解決手段】高分子材料に含まれる添加剤の違いによって光の吸収率や反射率が異なる波長を含む近赤外線を用いて測定することにより、添加剤の違いに関する情報を含む近赤外線スペクトルのデータが得られ、この近赤外線スペクトルのデータに対して、コンピュータを用いたデータ解析が容易なケモメトリックスにおけるデータ解析手法を適用することにより、近赤外線スペクトルのデータから高分子材料に含まれる添加剤の違いに関する情報が抽出され、このデータ解析手法で取得された情報に基づいて、高分子材料に含まれる添加剤の違い又は添加量を識別する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
分析対象の高分子材料について近赤外線の波長領域における近赤外線スペクトルを測定し、この近赤外線スペクトルのデータに対してケモメトリックスにおけるデータ解析手法を適用し、該データ解析手法で取得された情報に基づいて該高分子材料に含まれる添加剤の定性分析及び定量分析のどちらか一方又は両方を行うことを特徴とする高分子材料中の添加剤分析方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2G059AA01
, 2G059BB08
, 2G059CC12
, 2G059DD01
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059FF10
, 2G059HH01
, 2G059JJ01
, 2G059JJ30
, 2G059MM01
, 2G059MM02
, 2G059MM03
