特許
J-GLOBAL ID：200903099404738790
ウェーハ欠陥分類
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-556234
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519632
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】半導体処理中のオンザフライ自動検出分類(ADC)システムおよび方法を記載する。このシステムの一実施形態において、光源、例えば、レーザ(21)が検査を受けるウェーハ(22)の狭い領域を照明する。4つの均等に配置した暗視野検出器、例えば、光電子増倍管またはCCD(26〜29)が、それぞれの視野が重複して検出ゾーンを形成するようにウェーハの縁に載置される。1以上の検出器(26〜29)の方向に散乱された光が集光され、アナライザモジュール(34)に伝送される電気信号に変換される。アナライザモジュール(34)は、ウェーハにある欠陥を検出し、それらを異なる欠陥タイプに分類するように作用する。任意に、システムは、暗視野検出器も含む。
請求項（抜粋）：
被走査ウェーハのオンザフライ自動欠陥分類(ADC)方法であって、 (a)少なくとも2つの間隔をおいた検出器を設けるステップと、 (b)ウェーハ上に入射する照明スポットを発生させるために被走査ウェーハを照明するステップと、 (c)少なくとも2つの間隔をおいた検出器により、スポットから散乱された光を集光するステップと、 (d)前記ウェーハにある欠陥を検出するために前記集光を解析し、前記欠陥を異なる欠陥のタイプに分類するステップとを備える方法。
Fターム (17件)：
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051BA10
, 2G051BB05
, 2G051CA02
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051CA08
, 2G051CB05
, 2G051CC17
, 2G051EA23
, 2G051EA30
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2G051EC01
, 2G051EC02
