水素ガス精製装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-152586
公開番号（公開出願番号）：特開平6-345409
出願日： 1993年06月01日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：

【要約】【目的】半導体製造工程などで使用される超高純度の水素ガスを連続的に効率よく、しかも、低コストで大量に得るための精製装置を製作する。【構成】水素吸蔵合金の成型膜の表面に水素の透過性を有する金属皮膜を形成させて得られた水素透過膜を透過器内に設置する。

請求項（抜粋）：

内部が水素透過膜によって1次側気室および2次側気室に隔離された透過器を有する水素ガス精製装置において、水素透過膜として、少なくとも1次側となる表面に水素を選択的に透過する金属皮膜が形成せしめられた水素吸蔵合金膜を用いたことを特徴とする水素ガス精製装置。

IPC (4件)：

C01B 3/50 , B01D 71/02 500 , C01B 3/56 , C22C 16/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

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