特許
J-GLOBAL ID：200903099406011404
X線装置およびX線放射に影響を与えるための方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-317541
公開番号（公開出願番号）：特開2001-161674
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：
【要約】【課題】 X線放射源(3)およびX線検出器(4)を有し、前記X線放射源が対象物(P)に対して相対的に位置調節可能であり、対象物の放射線医学的撮影の途中でX線放射(7)をX線検出器に向かう方向に送り出し、かつX線放射の形状および/または強度プロフィルに影響を与えるためX線放射の放射路内に配置した手段(11、20)を有するX線装置を、対象物の関心のある範囲の質的に価値の高いX線像の発生を簡単化し得るように、しかも対象物の関心のある範囲を囲む領域に対する放射負荷を減じ得るように構成する。【解決手段】 前記手段が対象物の放射線医学的撮影の間にX線放射の形状および/または強度プロフィルに影響を与えるためダイナミックに設定可能である。
請求項（抜粋）：
X線放射源(3)およびX線検出器(4)を有し、前記X線放射源(3)が対象物(P)に対して相対的に位置調節可能であり、かつ対象物(P)の放射線医学的撮影の途中でX線放射(7)をX線検出器(4)に向かう方向に送り出し、またX線放射(7)の形状および/または強度プロフィルに影響を与えるためX線放射の放射路内に配置されている手段(11、20)を有するX線装置において、前記手段(11、20)が対象物(P)の放射線医学的撮影の間にX線放射の形状および/または強度プロフィルに影響を与えるためダイナミックに設定可能であることを特徴とするX線装置。
IPC (5件)：
A61B 6/03 320
, A61B 6/03
, G21K 1/04
, G21K 3/00
, H05G 1/30
A61B 6/03 320 K
, A61B 6/03 320 M
, G21K 1/04 R
, G21K 3/00 W
, H05G 1/30 N
