特許
J-GLOBAL ID：200903099415840677
全反射蛍光X線分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-248067
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102214
出願日： 1992年09月17日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 オイルやグリース等が測定室内で揮発したとしても、当該揮発成分が検出器の入射窓に付着するのを防止することができる全反射蛍光X線分析装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、内部が減圧される密閉構造の測定室(2)と、この測定室内の光学平面(4)に載置された試料にX線を低照射角度で照射するX線発生装置(1)と、X線の照射により試料から放出される蛍光X線を検出する検出器(7)とを備える全反射蛍光X線分析装置において、検出器の入射窓(11)を測定室の内壁面の温度よりも高温となるように加熱する電熱線(24)を設けたことを特徴とする。検出器の入射窓を加熱することで、揮発成分の付着、液化が防止され、検出結果の精度が向上する。
請求項（抜粋）：
内部が減圧される密閉構造の測定室と、該測定室内の光学平面に載置された試料にX線を低照射角度で照射するX線発生装置と、X線の照射により前記試料から放出される蛍光X線を検出する検出器とを備える全反射蛍光X線分析装置において、前記検出器の入射窓を前記測定室の内壁面の温度よりも高温となるように加熱する加熱手段を備えることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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