特許

J-GLOBAL ID：200903099433622970

クラスト形成のために緻密化された熱分解により製造された二酸化ケイ素

発明者： ウーヴェ シャハテリー ,  ラルフ ホフマン ,  ギュンター シュタイン ,  ローラント シャッファー ,  ライナー フリーメルト
出願人/特許権者： エボニック デグサ ゲーエムベーハー
代理人 (8件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-551743
公開番号（公開出願番号）：特表2009-524570
出願日： 2007年01月04日
公開日（公表日）： 2009年07月02日
要約：

熱分解により製造された二酸化ケイ素をクラスト形成のために緻密化し、その際、熱分解により製造された二酸化ケイ素を予備脱気に供し、かつ緻密化してクラストを形成させ、かつ該クラストを破砕し、かつ場合により分級する。クラスト形成のために緻密化された二酸化ケイ素の(DIN EN ISO 787-11による)タップ嵩密度は185〜700g/lである。該二酸化ケイ素はゴム混合物中のフィラーとして使用されることができる。

請求項（抜粋）：

クラスト形成のために緻密化された熱分解により製造された二酸化ケイ素において、前記のクラスト形成のために緻密化された熱分解により製造された二酸化ケイ素の(DIN EN ISO 787-11による)タップ嵩密度が185〜700g/lであることを特徴とする、クラスト形成のために緻密化された熱分解により製造された二酸化ケイ素。

IPC (3件)：

C01B 33/18 ,  C08K 3/36 ,  C08L 21/00

FI (3件)：

C01B33/18 Z ,  C08K3/36 ,  C08L21/00

Fターム (21件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD02 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH29 ,  4G072HH30 ,  4G072MM26 ,  4G072MM28 ,  4G072QQ01 ,  4G072QQ03 ,  4G072RR13 ,  4G072TT04 ,  4G072TT15 ,  4G072UU08 ,  4J002CP031 ,  4J002DJ016 ,  4J002FD016

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-209715
  
• シリカ含有ゴム組成物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-242482   出願人：日本ゼオン株式会社, 株式会社トクヤマ