特許

J-GLOBAL ID：200903099437046745

波面収差測定方法及び投影露光装置

発明者： 佐々木 亮 ,  大嵜 美紀
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-041676
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230193
出願日： 2000年02月18日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】投影露光装置において、露光負荷や環境変化により変化する投影光学系の結像性能を把握する為、波面収差を精度良く、かつ、高速に計測することのできる波面収差測定方法及び投影露光装置を得ること。【解決手段】第1の物体上に形成されたパターンを投影光学系を介して第2の物体上に結像させて露光する投影露光装置の投影光学系の波面測定方法において、該投影光学系を介して該第1物体面上の特定パターンの光強度分布を測定する光強度検出手段と、該光強度検出手段により検出された光強度分布を用いて、投影光学系の波面収差を算出する波面収差演算手段と、露光負荷、又は/及び環境変化などを測定してその値が一定値を超えた場合に投影光学系の波面収差を計測する制御手段とを利用していること。

請求項（抜粋）：

第1の物体上に形成されたパターンを投影光学系を介して第2の物体上に結像させて露光する投影露光装置の投影光学系の波面測定方法において、該投影光学系を介して該第1物体面上の特定パターンの光強度分布を測定する光強度検出手段と、該光強度検出手段により検出された光強度分布を用いて、投影光学系の波面収差を算出する波面収差演算手段と、露光負荷、又は/及び環境変化などを測定してその値が一定値を超えた場合に投影光学系の波面収差を計測し、光学特性を制御する制御手段とを利用していることを特徴とする波面収差測定方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 516 A

Fターム (21件)：

5F046AA22 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB19 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC09 ,  5F046DC12