特許

J-GLOBAL ID：200903099437409821

測定方法、測定装置及び光学系の製造方法

発明者： 青木 栄二
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-137227
公開番号（公開出願番号）：特開2009-281992
出願日： 2008年05月26日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：

【課題】被測定体によって形成される光束の波面を高精度(例えば、高空間周波数のうねり成分まで)、且つ、短時間で測定することができる測定方法を提供する。【解決手段】参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、前記測定装置における位相伝達関数及びパワースペクトル密度を用いて、前記測定装置による測定結果から前記光学系に起因する波面誤差を分離する測定方法を提供する。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、 前記基準面を配置して、前記基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記光学系に起因する波面誤差を測定する第1の測定ステップと、 前記被測定体を配置して、前記被測定体からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出することによって前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する第2の測定ステップと、 前記基準面から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記基準面と前記参照面との距離に依存する第1の位相伝達特性を算出する第1の算出ステップと、 前記被測定体から前記参照面を介して前記検出部に至る光路における光束の位相の伝達特性であって、前記被測定体と前記参照面との距離に依存する第2の位相伝達特性を算出する第2の算出ステップと、 前記第1の測定ステップで測定された前記波面誤差をフーリエ変換して第1のパワースペクトル密度を算出する第3の算出ステップと、 前記第2の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面をフーリエ変換して第2のパワースペクトル密度を算出する第4の算出ステップと、 前記第1の算出ステップで算出された前記第1の位相伝達特性及び前記第3の算出ステップで算出された前記第1のパワースペクトル密度に基づいて、前記第1の測定ステップにおける前記光学系に起因する波面誤差の基準パワースペクトル密度を算出する第5の算出ステップと、 前記第5の算出ステップで算出された前記基準パワースペクトル密度及び前記第2の算出ステップで算出された前記第2の位相伝達特性に基づいて、前記第2の測定ステップにおける前記光学系に起因する波面誤差の第3のパワースペクトル密度を算出する第6の算出ステップと、 前記第4の算出ステップで算出された前記第2のパワースペクトル密度から前記第6の算出ステップで算出された前記第3のパワースペクトル密度を分離して、前記第2の測定ステップで測定された前記被測定体によって形成される光束の波面を補正する補正ステップと、 を有することを特徴とする測定方法。

IPC (3件)：

G01M 11/02 ,  G01B 9/02 ,  G01B 11/24

FI (3件)：

G01M11/02 B ,  G01B9/02 ,  G01B11/24 D

Fターム (32件)：

2F064AA00 ,  2F064AA09 ,  2F064CC01 ,  2F064DD01 ,  2F064DD08 ,  2F064DD10 ,  2F064EE05 ,  2F064GG44 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064HH09 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ02 ,  2F064JJ15 ,  2F065AA53 ,  2F065BB22 ,  2F065CC17 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065DD11 ,  2F065EE00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ44 ,  2G086HH06

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 形状測定法および形状測定システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-027111   出願人：株式会社ニコン