特許

J-GLOBAL ID：200903099438036417

光学活性シクロヘキサノール類の製造方法

発明者： 村山 俊幸 ,  松本 崇司 ,  三浦 孝志
出願人/特許権者： 高砂香料工業株式会社
代理人 (1件)： 中本 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-289151
公開番号（公開出願番号）：特開平9-110750
出願日： 1995年10月12日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【課題】 不斉水素化方法による光学活性シクロヘキサノールの製造方法。【解決手段】 一般式(1)【化1】(式中、R1 は、炭素数1から4のアルキル基、水酸基又は保護された水酸基を示す)で表される2-置換シクロヘキサノンを遷移金属化合物、塩基及び窒素化合物からなる不斉水素化触媒の存在下に水素と反応させて不斉水素化することを特徴とする一般式(2)【化2】(式中、R1 は上記と同じである)で表される光学活性シクロヘキサノール類の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R1 は、炭素数1から4のアルキル基、水酸基又は保護された水酸基を示す)で表される2-置換シクロヘキサノンを遷移金属化合物、塩基及び窒素化合物からなる不斉水素化触媒の存在下に水素と反応させて不斉水素化することを特徴とする一般式(2)【化2】(式中、R1 は上記と同じである。)で表される光学活性シクロヘキサノール類の製造方法。

IPC (7件)：

C07C 35/08 ,  B01J 31/22 ,  C07C 29/145 ,  C07C 41/26 ,  C07C 43/196 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (6件)：

C07C 35/08 ,  B01J 31/22 X ,  C07C 29/145 ,  C07C 41/26 ,  C07C 43/196 ,  C07B 61/00 300