研磨用パッド及びそれを用いた研磨機及び研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051153
公開番号（公開出願番号）：特開2001-239451
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：

【要約】【課題】被研磨物表面に発生するスクラッチ傷、被研磨物表面へのダスト付着量を少なくし、さらにディッシングやエロージョンが少なく、研磨速度を高くすることをその課題とする。【解決手段】有機無機ナノコンポジットを含有することを特徴とする研磨用パッド。

請求項（抜粋）：

有機無機ナノコンポジットを含有することを特徴とする研磨用パッド。

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058BC02 , 3C058CA01 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058DA12

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