特許
J-GLOBAL ID：200903099486706548
除染方法とその除染システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
猪股 祥晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-012444
公開番号（公開出願番号）：特開平9-203797
出願日： 1996年01月29日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】原子力プラント等において放射化された各種機器の金属材料等の表面に付着した汚染を化学的に除染する際に、還元系及び酸化系のいずれの場合も除染効率が高く、しかも金属材料の腐食を抑制して廃棄物発生量の低減と、機器の健全性を保つと共に被曝低減による作業員等の安全性を向上す効果がある、除染方法とその除染システムを提供する。【解決手段】表面の汚染部分を化学薬品により除去する化学的除染において、予め除染剤中における除染対象物の金属材料の分極曲線を得ると共に当該機器の除染実施中に除染対象物2の金属材料における腐食電位を監視して、腐食電位が不働態域を保つように、除染液中の除染助剤濃度あるいは金属イオン濃度を自動的に制御する。
請求項（抜粋）：
表面の汚染部分を化学薬品により除去する化学的除染において、除染実施中に除染対象物の金属材料における腐食電位の監視を行うことを特徴とする除染方法。
IPC (2件)：
G21F 9/28 525
, G21F 9/28 ZAB
G21F 9/28 525 D
, G21F 9/28 ZAB
