特許

J-GLOBAL ID：200903099489478724

立体効果による選択性触媒およびその製造方法

発明者： 公納 秀幸 ,  柴垣 真 ,  高橋 京子 ,  松下 肇
出願人/特許権者： 日本たばこ産業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平2-220988
公開番号（公開出願番号）：特開平5-123582
出願日： 1990年08月24日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】 電子出願以前の出願であるので要約・選択図及び出願人の識別番号は存在しない。

請求項（抜粋）：

基質分子の反応を促進するための不均一触媒であって、触媒活性を有しない担体粒子と、該担体粒子表面に所定の厚さで堆積された触媒不活性層と、基質分子に対して所定の立体効果を与える寸法で前記触媒不活性層に設けられた凹孔と、該凹孔の底部に形成された触媒金属層とを具備し、前記凹孔の立体効果によって基質選択性および/または位置選択性を生じることを特徴とする選択性触媒。

IPC (12件)：

B01J 35/10 301 ,  B01J 21/04 ,  B01J 21/08 ,  B01J 21/16 ,  B01J 23/40 ,  B01J 23/74 321 ,  B01J 29/32 ,  B01J 35/02 ,  C07C 5/05 ,  C07C 9/15 ,  C07C 11/02 ,  C07B 61/00 300