特許

J-GLOBAL ID：200903099489654603

固体高分子電解質膜を用いた電気化学デバイスの製造方法

発明者： 光田 憲朗 ,  前田 秀雄 ,  村橋 俊明
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-127484
公開番号（公開出願番号）：特開平5-325983
出願日： 1992年05月20日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 固体高分子電解質膜と電極触媒層との間に形成された3次元的な反応界面を特別な操作をすることなく維持でき、かつ、製造作業も容易な固体高分子電解質膜を用いた電気化学デイバスの製造方法を提供する。【構成】 電極触媒層2を挟んで固体高分子電解質膜1と電極基材3とを130°C以上210°C未満の温度下でホットプレスして、前記電極基材3の表面を前記固体高分子電解質膜内に30μm以上の深さまで食い込ませた。このことにより、電極触媒層2と固体高分子電解質膜1と間に3次元的な反応界面を形成できると共に、固体高分子電解質膜1が吸湿して膨張しても電極基材3が固体高分子電解質膜1から外れたり、脱落してしまうことはない。

請求項（抜粋）：

電極触媒層を挟んで固体高分子電解質膜と電極基材とを130°C以上210°C未満の温度下でホットプレスして、前記電極基材の表面を前記固体高分子電解質膜内に30μm以上の深さまで食い込ませたことを特徴とする固体高分子電解質膜を用いた電気化学デバイスの製造方法。

IPC (4件)：

H01M 4/88 ,  H01M 4/86 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-196389
  
• 特開昭58-126674
  
• 特開平3-295171
  
• 特開昭58-126675