特許
J-GLOBAL ID：200903099509869059
磁気-サーメット誘電体複合粒子をプラズマスプレーすることにより被覆層を形成する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-179380
公開番号（公開出願番号）：特開平6-220601
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：
【要約】【目的】セラミックマトリックス中に非常に小さな磁性粒子を分散させた複合体粒子を基材表面にプラズマスプレーすることにより耐高熱性被覆を形成することを目的とする。【構成】被覆されるべき表面は溶媒洗浄、グリットブラストなどの研磨により前処理される。また、この表面と複合体被覆との中間の熱膨脹係数を有する薄い導電性遷移層をその表面に予め被覆してもよい。セラミックマトリックス中に非常に小さな磁性金属粒子を分散させた複合体粒子を用意する。この複合体粒子により小さい純粋なマトリックス粒子、または低融点の粒子を少量混合し、接着性を向上させてもよい。この複合体粒子は基材表面に複合体粒子表面のみが溶融するような温度でプラズマスプレーされ、過度の導電性コーティングを形成することなく、より高い磁性材料の充填を可能にする。【効果】得られた被覆層は耐久性、耐熱性がありマイクロ波を吸収する。
請求項（抜粋）：
コーティングされるべき基板表面を清浄化する工程と、粒径60ないし75μmの複合微粒子であって、この複合微粒子が平均粒径1ないし5μmの複数の磁性金属粒子を互いに離間しつつ50ないし75容量%を構成するようにして含む電気絶縁性セラミックマトリックスからなるものを用意する工程と、該複合微粒子をその表面部分のみが溶解する温度条件下で上記基板表面にプラズマスプレーし、これにより上記基板表面に磁気-セラミック誘電体層を形成する工程と、を含むことを特徴とする基板表面に磁気-サーメット誘電性被覆層を形成する方法。
IPC (3件)：
C23C 4/04
, C23C 4/10
, C23C 26/00
