特許

J-GLOBAL ID：200903099519112614

合成シリカガラスの製造方法及び装置

発明者： 石川 真二 ,  田中 聡 ,  松井 雅彦
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 内田 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-221379
公開番号（公開出願番号）：特開平10-067522
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 多孔質体を真空ないしは減圧下で透明化するに際し、多孔質体を傷付けることなく透明化を遂行することのできる合成シリカガラスの製造方法を提供すること。【解決手段】 火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱透明化雰囲気を13300Pa未満の減圧不活性ガス雰囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排気を下部から行うことを特徴とする合成シリカガラスの製造方法。

請求項（抜粋）：

火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱透明化雰囲気を13300Pa未満の減圧不活性ガス雰囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排気を下部から行うことを特徴とする合成シリカガラスの製造方法。

IPC (5件)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03B 37/014 ,  C03B 37/018 ,  G02B 6/00 356

FI (5件)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03B 37/014 Z ,  C03B 37/018 Z ,  G02B 6/00 356 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-051437
  
• 特開昭54-142222
  
• 特開平2-051437
  
• 特開昭54-142222