特許

J-GLOBAL ID：200903099524162158

パターン抽出装置

発明者： 小林 孝次 ,  中島 寛 ,  青木 孝文 ,  川又 政征 ,  樋口 龍雄
出願人/特許権者： 山武ハネウェル株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1996003212
公開番号（公開出願番号）：WO1998-020454
出願日： 1996年11月01日
公開日（公表日）： 1998年05月14日
要約：

【要約】照合パターンの画像データ(図1C)に2次元離散的フーリエ変換(DFT)を施して作成された照合フーリエ画像データ(図1D)FBと、登録パターンの画像データに2次元DFTを施して作成された登録フーリエ画像データ(図1B)FAとを合成し、振幅抑制処理を行ったうえ、2次元DFTを施す。この2次元DFTの施された合成フーリエ画像データ(図1E)に出現する相関成分エリアより相関ピークを抽出し、この相関ピークを含む所定の領域をマスクする(図1F)。このマスクされた合成フーリエ画像データに2次元逆DFTを施し、振幅復元処理を行ったうえ、登録フーリエ画像データFAと再合成し、2次元逆DFTを施す。これにより図1Gに示すような相違パターンまたは移動パターンを含む画像データが得られる。

請求項（抜粋）：

登録パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、 照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータを作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、 前記登録フーリエパターンデータ作成手段によって作成された登録フーリエN次元パターンデータと前記照合フーリエパターンデータ作成手段によって作成された照合フーリエN次元パターンデータとを合成して得られる合成フーリエN次元パターンデータに対してN次元離散的フーリエ変換およびN次元離散的逆フーリエ変換の何れか一方を施す第1のパターン処理手段と、 前記第1のパターン処理手段によってフーリエ変換が施された合成フーリエN次元パターンデータに出現する相関成分エリア内の相関ピークを求め、求めた相関ピークを含む所定の領域をマスクするマスク処理手段と、 前記マスク処理手段によって所定領域がマスクされた合成フーリエN次元パターンデータに対し、前記第1のパターン処理手段においてN次元離散的フーリエ変換が施されている場合にはN次元離散的逆フーリエ変換を施し、前記第1のパターン処理手段においてN次元離散的逆フーリエ変換が施されている場合にはN次元離散的フーリエ変換を施す第2のパターン処理手段と、 前記第2のパターン処理手段によってフーリエ変換の施された合成フーリエN次元パターンデータと前記登録フーリエパターンデータ作成手段によって作成された登録フーリエN次元パターンデータとを再合成して得られる再合成フーリエN次元パターンデータに対してN次元離散的逆フーリエ変換を施す第3のパターン処理手段と を備えたことを特徴とするパターン抽出装置。

IPC (1件)：

G06T 7/00