特許
J-GLOBAL ID：200903099526218231
フォトマスク検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-251609
公開番号（公開出願番号）：特開平6-102660
出願日： 1992年09月21日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 ウエファー上に転写しても影響のない欠陥については、これを無視して最終チェック時の工数の低減化を図ることのできるフォトマスク検査装置を提供することにある。【構成】 設計パターンデータを記憶しているメモリ3と、フォトマスクのパターンを検出する検出器7と、この検出器7からの検出パターンを記憶するメモリ8と、メモリ3に記憶されている設計パターンデータのビットマップとメモリ8に記憶されている検出パターンのビットマップとを比較して各ビットに対して排他的論理和となる排他的論理和ビットマップを求める比較器9と、この比較器9からの排他的論理和ビットマップの各ビットと所定の基準パターンとを比較して欠陥であるか否かを判定する欠陥判定器10とを具備する。
請求項（抜粋）：
設計パターンデータを記憶している第一の記憶手段と、フォトマスクのパターンを検出するパターン検出手段と、このパターン検出手段からの検出パターンを記憶する第二の記憶手段と、前記第一の記憶手段に記憶されている設計パターンデータのビットマップと前記第二の記憶手段に記憶されている検出パターンのビットマップとを比較して各ビットに対して排他的論理和となる排他的論理和ビットマップを求める比較器と、この比較器からの排他的論理和ビットマップの各ビットと所定の基準パターンとを比較して欠陥であるか否かを判定する欠陥判定手段とを具備することを特徴とするフォトマスク検査装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G06F 15/62 405
, H01L 21/027
, H01L 21/66
