特許

J-GLOBAL ID：200903099532244490

磁気象嵌構造体

発明者： 中谷 功
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団 ,  科学技術庁金属材料技術研究所長
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086118
公開番号（公開出願番号）：特開2000-277330
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】 磁性材料の高密度集積化による大容量、高精度の情報記録をも可能とする、新しい磁気微細構造化のための方策を提供する。【解決手段】 磁性材料が、これと異なる材料からなる基板の表層部に埋設されているとともに、埋設された磁性材料の少くとも一部分が基板表面に露出されて磁性材料の微細配置構造が形成されている磁気象嵌構造体(C)とする。

請求項（抜粋）：

磁性材料が、これと異なる材料からなる基板の表層部に埋設されているとともに、埋設された磁性材料の少くとも一部分が基板表面に露出されて磁性材料の微細配置構造が形成されていることを特徴とする磁気象嵌構造体。

IPC (5件)：

H01F 10/00 ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/64 ,  G11B 5/85 ,  G11B 5/855

FI (5件)：

H01F 10/00 ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/64 C ,  G11B 5/85 C ,  G11B 5/855

Fターム (16件)：

5D006BB07 ,  5D006BB08 ,  5D006CB01 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006DA04 ,  5D112AA16 ,  5D112AA18 ,  5D112FA04 ,  5D112GA20 ,  5E049AA04 ,  5E049AA07 ,  5E049AA09 ,  5E049AC05 ,  5E049BA06 ,  5E049CB10