特許
J-GLOBAL ID：200903099541158784
半導体製造システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-064103
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260226
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】半導体工場内の雰囲気の高清浄度化を推進する局所クリーン化を、保守性を考慮した解決策を得る。【解決手段】低清浄度に抑さえたクリーンルームの中で、搬送車により製品を搬送し、該搬送車を含む搬送領域を独立の清浄化機構を有したトンネル室で覆い、該トンネル室に設けた開閉機構を有する半導体製品の搬出入口と各処理装置を接続する。装置近傍には組立型のクリーンブース、該クリーンブースに清浄空気を供給する機構、および塵埃等を除去する排気機構を具備する。【効果】ウエハ周囲の雰囲気のみ高清浄度が維持でき、クリーンルームの初期、維持コストの低減が可能となる。
請求項（抜粋）：
ダウンフローの空気流が形成されるクリーンルームにおいて、ウエハを載置しウエハ搬送用ハンドリングアームを有する搬送車が可動する領域の周囲に仕切り板を有したトンネル室を形成し、該トンネル室の天井部にはファン及びフィルターから形成される高清浄ユニット、該トンネル室の床部には複数の孔が設置され、開閉機構およびガス置換機構を有して該トンネル室の側壁部の孔とウエハ処理装置を連結し、その中を介して前記搬送車が載置したウエハを前記ウエハ処理装置へ受渡し、または処理後のウエハを受け取るためのバッファ部を設けたことを特徴とする半導体製造システム。
IPC (5件)：
H01L 21/02
, B65G 49/00
, B65G 49/07
, F24F 7/06
, H01L 21/68
H01L 21/02 D
, B65G 49/00 A
, B65G 49/07 C
, F24F 7/06 C
, H01L 21/68 A
