ウエハ処理装置及びウエハ処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本孝久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-282193
公開番号（公開出願番号）：特開平6-112303
出願日： 1992年09月29日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】ウエハの処理の前及び後で予備放電を行う必要のない静電チャックを備えたウエハ処理装置を提供する。あるいは、ウエハの温度を測定するための温度測定手段を確実にウエハに接触させ得るウエハ処理装置を提供する。【構成】第1の態様のウエハ処理装置は、(イ)電極32を具備し、ウエハ50を静電力で固定する静電チャック30と、(ロ)静電チャックを載置した支持台12と、(ハ)ウエハ50を静電チャック30へと昇降させるための、接地されたプッシャー36、から成る。第2の態様のウエハ処理装置は、(イ)ウエハ50の温度を測定する温度測定手段60と、(ロ)温度測定手段60がウエハ表面に接触するように、温度測定手段60をウエハに向かって付勢する付勢手段62、から成る。

請求項（抜粋）：

電極を具備し、ウエハを静電力で固定する静電チャックと、静電チャックを載置した支持台と、ウエハを静電チャックへと昇降させるための、接地されたプッシャー、から成ることを特徴とするウエハ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , H01L 21/302 , H01L 21/66

引用特許：

審査官引用 (1件)

プラズマ処理開始方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-059367 出願人：東京エレクトロン山梨株式会社

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