特許
J-GLOBAL ID:200903099547024674

珪酸塩スケールの除去方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-209442
公開番号(公開出願番号):特開2003-027263
出願日: 2001年07月10日
公開日(公表日): 2003年01月29日
要約:
【要約】【課題】 各種工業用水系における珪酸塩スケールを、化学的に効率よく除去し、かつ塩酸やフッ酸等の刺激性の強い有毒ガスが発生する恐れのない洗浄方法を提供する【解決手段】 第1プロトンのpKa値が4未満である水溶性カルボン酸類、スルファミン酸から選らばれる1種以上を含むpHが4以下の水溶液と接触させる工程、その後に、水に溶解してフッ化物イオンを生成するフッ化物を含む水溶液と接触させる工程を有することを特徴としている。
請求項(抜粋):
第1プロトンのpKa値が4未満である水溶性カルボン酸類、スルファミン酸から選らばれる1種以上を含むpH4以下の水溶液と接触させる工程、その後に、水に溶解してフッ化物イオンを生成するフッ化物を含む水溶液と接触させる工程を有することを特徴とする珪酸塩スケールの除去方法。
IPC (6件):
C23G 1/02 ,  B08B 3/08 ,  B08B 9/02 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/08
FI (6件):
C23G 1/02 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/08 ,  B08B 9/02 Z
Fターム (42件):
3B116AA13 ,  3B116BB03 ,  3B116BB82 ,  3B116BB87 ,  3B201AA13 ,  3B201BB03 ,  3B201BB82 ,  3B201BB87 ,  3B201BB92 ,  3B201BB96 ,  4H003BA12 ,  4H003DA09 ,  4H003DC02 ,  4H003EA05 ,  4H003EA06 ,  4H003EB08 ,  4H003FA01 ,  4H003FA21 ,  4K053PA01 ,  4K053PA02 ,  4K053PA03 ,  4K053PA06 ,  4K053PA07 ,  4K053PA09 ,  4K053PA18 ,  4K053QA01 ,  4K053RA14 ,  4K053RA21 ,  4K053RA22 ,  4K053RA23 ,  4K053RA25 ,  4K053RA45 ,  4K053RA46 ,  4K053RA47 ,  4K053RA52 ,  4K053RA63 ,  4K053SA06 ,  4K053SA08 ,  4K053TA16 ,  4K053TA17 ,  4K053XA24 ,  4K053YA03

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