特許
J-GLOBAL ID:200903099549704656

着臭剤及び/又はフレーバー組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-059364
公開番号(公開出願番号):特開平7-258684
出願日: 1995年03月17日
公開日(公表日): 1995年10月09日
要約:
【要約】【目的】 着臭剤及び/又はフレーバ組成物を提供すること。【構成】 式:【化1】[式中、R1、R2はH、アルキル、アルケニル、任意に置換されたシクロアルキル、任意に置換されたシクロアルキル-アルキル、任意に置換されたシクロアルキル-アルケニル、任意に置換されたシクロアルケニル、任意に置換されたシクロアルケニル-アルキル、任意に置換されたフェニル、置換ベンジル、置換フェネチル、フェニルアルケニル、二環式残基を意味する、又はR1 +R2 +炭素原子C1は共に任意に置換されたシクロアルキル若しくは二環式残基を意味し、R3は低級アルキル、低級アルケニル又はベンジルを意味する]で示される化合物を含む着臭剤及び/又はフレーバ組成物。
請求項(抜粋):
式:【化1】[式中、R1 、R2 はH、アルキル、アルケニル、任意に置換されたシクロアルキル、任意に置換されたシクロアルキル-アルキル、任意に置換されたシクロアルキル-アルケニル、任意に置換されたシクロアルケニル、任意に置換されたシクロアルケニル-アルキル、任意に置換されたフェニル、置換ベンジル、置換フェネチル、フェニルアルケニル、二環式残基を意味する、又はR1 +R2 +炭素原子C1 は共に任意に置換されたシクロアルキル若しくは二環式残基を意味し、R3 は低級アルキル、低級アルケニル又はベンジルを意味する]で示される化合物を含む着臭剤及び/又はフレーバー組成物。
IPC (2件):
C11B 9/00 ,  A61K 7/46 395

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