特許
J-GLOBAL ID：200903099559624308
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302186
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151273
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】レチクル上の回路パターン配置に制約がない投影露光装置を提供すること。【構成】所定のパターンを有するレチクル(R) 上を円弧状に照明する照明光学系(1〜7)と、照明光学系により照明されたパターンを基板(W) 上に投影する投影光学系(10)とを有する投影露光装置において、照明光学系は、レチクルの近傍またはレチクルと実質的に共役な位置に、レチクル上の照明領域の一部を遮光するための遮光手段(8) を有するように構成される。
請求項（抜粋）：
所定のパターンを有するレチクル上を円弧状に照明する照明光学系と、前記照明光学系により照明された前記パターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、前記レチクルの近傍または前記レチクルと実質的に共役な位置に、前記レチクル上の照明領域の一部を遮光するための遮光手段を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20
