特許

J-GLOBAL ID：200903099562630050

露光装置

発明者： 藤塚 清治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-140840
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306827
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】マスクの位置決め精度を確保しながら当該マスクのセツトアツプ時間を短縮化する。【解決手段】マスク(R1、R2、R3、R4)に形成されたパターンに基づいてマスク(R1、R2、R3、R4)の位置決めの実行又は他のマスクの位置決めデータによる位置決めを選択するようにしたことにより、高い位置決め精度が要求されるパターンPT1に対してのみ高精度な位置決めを行うことができ、これにより必要上十分なマスクの位置決め精度と処理時間の両立を実現することができる。

請求項（抜粋）：

パターンを有した複数のマスクを保持し、それぞれのマスクを所定位置に移動可能なマスク移動手段と、前記所定位置にあるマスクを透過した光束を感光基板上に投影する投影光学系とを備え前記複数のマスクの像を前記感光基板に順次露光する露光装置において、露光対象となるマスクが前記マスク移動手段により移動されたときに、前記露光対象のマスクを前記所定位置に対して位置決めする第1位置決め手段と、前記複数のマスクの中からマスクを選択し、この選択されたマスクを所定位置に対して位置決めしたときのデータに基づいて、前記露光対象となるマスクの位置決めを行う第2位置決め手段と、前記パターンに基づいて、前記第1位置決め手段と前記第2位置決め手段とのいずれか一方を選択する選択手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 525 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 N ,  H01L 21/30 525 R