特許

J-GLOBAL ID：200903099564537120

薄膜形成方法、デバイスの製造方法、電気光学装置の製造方法、電子機器

発明者： 増田 貴史
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-382525
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144260
出願日： 2003年11月12日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】 インクジェット技術を用いた薄膜形成方法において、微細化や膜物性の向上に好適な膜形成方法を提供する。【解決手段】 液滴の乾燥過程において、液滴の縁部をピニングしつつ、液滴内に温度差を与えて対流を生じさせる。この際、液滴表面における液体の流れ方向を、例えば液滴の底部外周部から頂部に向かう方向とする。これにより、液滴の縁部でランダムに積み上げられた微粒子が攪拌されて再配置され、最密充填構造を有する2次元コロイド結晶膜が形成される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

微粒子を含む液滴を基板上に配置する工程と、 前記液滴を乾燥することにより前記基板上に前記微粒子からなる薄膜を形成する工程と、を含み、 前記液滴の乾燥工程は、前記液滴の縁部に前記微粒子を析出又は凝集させ、且つ、該液滴の頂部と底部とに温度差を与えて対流を生じさせる工程を含むことを特徴とする、薄膜形成方法。

IPC (5件)：

B05D3/02 ,  B05D7/00 ,  G02B5/20 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (5件)：

B05D3/02 Z ,  B05D7/00 H ,  G02B5/20 101 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (25件)：

2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB48Z ,  4D075BB93Z ,  4D075CA36 ,  4D075CB07 ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA10 ,  4D075EB14 ,  4D075EC07 ,  4D075EC24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電気回路、その製造方法および電気回路製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-078149   出願人：セイコーエプソン株式会社