特許
J-GLOBAL ID:200903099566273855

薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-079356
公開番号(公開出願番号):特開平7-256065
出願日: 1994年03月25日
公開日(公表日): 1995年10月09日
要約:
【要約】【目的】 多孔質セラミックス中空糸内にシリカゾルを流入接触後、乾燥、焼成して得られる多孔質セラミックス中空糸の気体分離膜性能を一段と向上せしめたものを製造する方法を提供する。【構成】 多孔質セラミックス中空糸内にシリカゾルを流入接触後、乾燥、焼成させて得られた多孔質セラミックス中空糸基材を、シリカゾル中に浸漬させ、引き上げた後、乾燥、焼成して、薄膜積層多孔質セラミックス中空糸を製造する。
請求項(抜粋):
多孔質セラミックス中空糸内にシリカゾルを流入接触後、乾燥、焼成させて得られた多孔質セラミックス中空糸基材を、シリカゾル中に浸漬させ、引き上げた後、乾燥、焼成することを特徴とする薄膜積層多孔質セラミックス中空糸の製造法。
IPC (5件):
B01D 71/02 500 ,  C04B 38/00 303 ,  D01D 5/24 ,  D01F 1/08 ,  D01F 8/00

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