特許
J-GLOBAL ID：200903099570280688
反射防止膜組成物及びこれを用いたパターンの製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-100854
公開番号（公開出願番号）：特開平8-292562
出願日： 1995年04月25日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：
【要約】【目的】 ホトレジストプロセスの工程数を増やすことなく、かつレジストの感度の低下を伴うこともなく、簡便なプロセスでパターン寸法精度を向上させうる反射防止膜組成物及びこれを用いたパターンの製造法を提供すること。【構成】 ポリ(ビニルピロリドン)系樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有する反射防止膜組成物並びに基板1上にレジスト膜2を形成する工程、レジスト膜に所定のパターンを露光する工程及び露光後前記レジストを現像する工程を含むパターンの製造法において、露光前にレジスト膜上に前記の反射防止膜組成物を用いて反射防止膜3を形成する工程を含むことを特徴とするパターンの製造法である。
請求項（抜粋）：
ポリ(ビニルピロリドン)系樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有する反射防止膜組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 506
, G03F 7/11 501
, G03F 7/38 501
, H01L 21/027
G03F 7/004 506
, G03F 7/11 501
, G03F 7/38 501
, H01L 21/30 574
