特許

J-GLOBAL ID：200903099572942963

含ヒ素排水の処理方法

発明者： 桜井 文隆 ,  井上 修
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-107089
公開番号（公開出願番号）：特開2001-286875
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】 含ヒ素排水中のヒ素を低コストで効率よく除去することができ、かつ澱物発生量が少ない含ヒ素排水の処理方法を提供する。【解決手段】 2次反応槽3において含ヒ素排水に消石灰を添加する消石灰添加工程と、この工程で生成した澱物を分離して得られた中間処理水に、3次反応槽5において酸性第1鉄塩を添加する酸性第1鉄塩添加工程とを有する含ヒ素排水の処理方法であって、消石灰添加工程における消石灰の添加量を、含ヒ素排水中のヒ素に対する消石灰中カルシウムのモル比Ca/Asが2〜5となるように設定し、酸性第1鉄塩添加工程における中間処理水のpHを7〜10に設定し、かつこの工程における酸性第1鉄塩の添加量を、中間処理水中のヒ素に対する酸性第1鉄塩中の鉄のモル比Fe/Asが5以上となるように設定する。

請求項（抜粋）：

含ヒ素排水に消石灰を添加する消石灰添加工程と、この工程で生成した澱物を分離して得られた中間処理水に、酸性第1鉄塩を添加する酸性第1鉄塩添加工程とを有する含ヒ素排水の処理方法であって、消石灰添加工程における消石灰の添加量を、含ヒ素排水中のヒ素に対する消石灰中カルシウムのモル比Ca/Asが2〜5となるように設定し、酸性第1鉄塩添加工程における中間処理水のpHを7〜10に設定し、かつこの工程における酸性第1鉄塩の添加量を、中間処理水中のヒ素に対する酸性第1鉄塩中の鉄のモル比Fe/Asが5以上となるように設定することを特徴とする含ヒ素排水の処理方法。

IPC (4件)：

C02F 1/62 ZAB ,  C22B 3/44 ,  C22B 7/02 ,  C22B 30/04

FI (4件)：

C02F 1/62 ZAB Z ,  C22B 7/02 B ,  C22B 30/04 ,  C22B 3/00 Q

Fターム (14件)：

4D038AA08 ,  4D038AB36 ,  4D038AB70 ,  4D038AB79 ,  4D038AB81 ,  4D038AB83 ,  4D038BB13 ,  4K001AA03 ,  4K001AA09 ,  4K001BA14 ,  4K001BA21 ,  4K001CA06 ,  4K001DB23 ,  4K001GB09