特許

J-GLOBAL ID：200903099578198697

半導体超微粒子を用いた相分離構造の解析方法及び解析装置

発明者： 吉江 建一 ,  加和 学 ,  渡辺 朗 ,  山口 由岐夫 ,  前之園 信也 ,  植松 隆史
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-009971
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214139
出願日： 2001年01月18日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】 相分離構造における特定の相の選択的な検出を、バルク状態で、必要に応じてその経時変化をも含めて行うことにより該相分離構造を解析する方法、及び装置を提供する。【解決手段】 相分離系における特定の相への相溶性が増強された半導体超微粒子を該相分離系に共存せしめ、共焦点顕微鏡により該半導体超微粒子を検出する。

請求項（抜粋）：

相分離系における特定の相への相溶性が増強された半導体超微粒子を該相分離系に共存せしめ、共焦点顕微鏡により該半導体超微粒子を検出することを特徴とする相分離構造の解析方法。

IPC (4件)：

G01N 21/64 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/63 ,  G02B 21/00

FI (4件)：

G01N 21/64 E ,  G01N 21/27 E ,  G01N 21/63 Z ,  G02B 21/00

Fターム (29件)：

2G043AA03 ,  2G043BA14 ,  2G043CA04 ,  2G043DA02 ,  2G043EA01 ,  2G043FA02 ,  2G043GA02 ,  2G043GA07 ,  2G043GB19 ,  2G043GB21 ,  2G043HA01 ,  2G043HA09 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01 ,  2G043LA03 ,  2G059AA05 ,  2G059BB16 ,  2G059GG00 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK07 ,  2H052AA08 ,  2H052AD23 ,  2H052AD24 ,  2H052AD25 ,  2H052AE13