特許
J-GLOBAL ID：200903099579253659
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-339139
公開番号（公開出願番号）：特開平11-175922
出願日： 1997年12月09日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 従来の磁気抵抗効果素子層の製造方法を用いると、前記磁気抵抗効果素子層のハイト側の面が湾曲化されて形成されてしまったり、またO2プラズマによるドライエッチングによりハイト側表面が削り取られてしてしまうなど、磁気抵抗効果素子層を所定の形状に形成することができなかった。【解決手段】 先に磁気抵抗効果素子層3のハイト方向への長さ寸法を決め、次にトラック幅方向への幅寸法を決め、最後にバイアス層4と電極層5の成膜を行う。特に本発明ではハイト方向への長さを決めた後、中間ギャップ層6を成膜するので、次の工程で用いられるレジスト層を平坦化された表面に形成できる。また本発明で用いられるレジスト層は全てリフトオフ用である。本発明の製造方法を用いれば従来のような問題は起こらず、磁気抵抗効果素子層3を所定の形状に高精度に形成できる。
請求項（抜粋）：
非磁性材料で形成された下部ギャップ層と上部ギャップ層との間に、磁気抵抗効果素子層と、この磁気抵抗効果素子層に検出電流を与える電極層とが形成されている薄膜磁気ヘッドにおいて、前記下部ギャップ層と前記上部ギャップ層の間に中間ギャップ層が介在しており、前記中間ギャップ層が前記磁気抵抗効果素子層のトラック幅方向の両側領域および/または前記磁気抵抗効果素子層のハイト方向の後方領域にかけて形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
前のページに戻る
