基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-222748
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067711
出願日： 1997年08月19日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】【課題】簡単な構成で処理槽に供給される処理液濃度の変動を抑える。【解決手段】処理槽12に純水を給送する給水管16を略水平に配設するとともに、この給水管16に薬液供給管26a〜26cを接続し、給水管16の上方に配設された薬液タンク28a〜28c内の薬液が薬液供給管26a〜26cを自重で流れて給水管16に至るようにした。これにより給水管16内の純水に薬液を導入しつつ所定濃度の薬液を調整して処理槽12に供給するようにした。なお、薬液供給管26a〜26cには、それぞれ給水管16に至る薬液の量を調整する開閉バルブ30a〜30cを設けた。

請求項（抜粋）：

純水と薬液とを混合させた処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、基板に処理を行うための基板処理部と、前記基板処理部と純水供給源との間で接続されている第1供給管と、一方が薬液供給源に接続され、かつ他方が前記第1供給管の上側に接続されている第2供給管とを備え、前記第1供給管と前記第2供給管とが接続されている部分より上流側の前記第1供給管と、前記第2供給管とのなす角が鋭角であることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , B08B 3/04

FI (2件)：

H01L 21/304 341 T , B08B 3/04 Z

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