特許

J-GLOBAL ID：200903099599820045

高周波放電反応装置

発明者： 中川 行人
出願人/特許権者： 日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-268427
公開番号（公開出願番号）：特開平7-102378
出願日： 1993年09月30日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：

【要約】【目的】 高周波放電反応装置において低圧力および高密度のプラズマの利用によって処理の高速、高精度を図ると共に、装置の保守管理を容易にする。【構成】 排気機構5と、高周波電力供給機構10,11,12と、排気機構で減圧された空間に高周波電力供給機構で高周波電力を導入して所定ガスを放電させプラズマを発生させるためのプラズマ発生室1と、このプラズマ発生室で発生したプラズマを導入し基板保持機構3上の基板4の表面を処理するための処理室2を備え、処理室の内部空間に複数のカスプ磁界23を発生させる磁気回路22を処理室の周囲に設置し、処理室の壁部内側にプラズマに接する筒型の内壁部材8,9 を回転可能に支持して設け、かつこの内壁部材を回転させる回転駆動装置13を設ける。また処理室2の内部空間に複数のカスプ磁界を発生させる磁気回路を処理室の周囲に回転可能に支持して設け、磁気回路22を回転させる回転駆動装置40を設ける。

請求項（抜粋）：

排気機構と、高周波電力供給機構と、前記排気機構で減圧された空間に前記高周波電力供給機構で高周波電力を導入して所定ガスを放電させプラズマを発生させるためのプラズマ発生室と、このプラズマ発生室で発生したプラズマを導入し基板保持機構上の基板の表面を処理するための処理室とを備える高周波放電反応装置において、前記処理室の内部空間に複数のカスプ磁界を発生させる磁気回路を前記処理室の周囲に設置し、前記処理室の壁部内側にプラズマに接する筒型の内壁部材を回転可能に支持して設け、かつこの内壁部材を回転させる回転駆動装置を設けたことを特徴とする高周波放電反応装置。