特許
J-GLOBAL ID：200903099600337256
電子ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128738
公開番号（公開出願番号）：特開平6-338445
出願日： 1993年05月31日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：
【要約】【目的】 図形形状をしたアパーチャや2次元に配列された電子源の像を一括照射する電子ビーム描画装置において、大面積の電子ビームにより、高スループットで、かつ、高精度に描画を行うことのできる装置を実現する。【構成】 図形形状の開口部を有するアパーチャ13の像を、第1および第2の投影レンズ3、4により縮小投影し、さらに、対物レンズ5、偏向器6、7により試料8上に照射する電子ビーム描画装置において、上記投影レンズ系を、第1投影レンズ3の後方焦点の位置と第2投影レンズ4の前方焦点の位置とが一致するように配置する。
請求項（抜粋）：
電子ビームを発生する電子源と、電子ビームを任意の形状に成形する1つ以上のアパーチャと、上記任意形状のアパーチャの像を縮小投影する第1と第2の投影レンズと、投影された像を試料上に照射する1つ以上の対物レンズと、電子ビームを上記試料上に偏向して描画する1つ以上の偏向器とを具備する電子ビーム描画装置において、上記第1投影レンズの後方焦点の位置と上記第2投影レンズの前方焦点の位置とが一致するように上記第1と第2の投影レンズを配置したことを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G21K 5/04
, H01J 37/141
, H01J 37/305
