特許

J-GLOBAL ID：200903099626645773

膜厚測定方法

発明者： 寺田 慎一
出願人/特許権者： 株式会社テクノス研究所
代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-125947
公開番号（公開出願番号）：特開平10-318737
出願日： 1997年05月15日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】 X線反射率法と蛍光X線法との組合せによって、測定精度を維持しつつ、膜厚の測定範囲を大幅に拡大できる膜厚測定方法を提供する。【解決手段】 まず未知試料uと同種の物質で構成され、X線反射率法によって膜厚測定可能な標準試料cを用意し、次にX線反射率法を用いて標準試料cのX線反射率曲線を計測し、該曲線の干渉周期から膜厚Tcを、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρcをそれぞれ測定し、次に蛍光X線法を用いて標準試料cの蛍光X線強度Fcを測定し、次に標準試料cの感度係数α(=Fc/(ρc・Tc))を算出し、次にX線反射率法を用いて未知試料uのX線反射率曲線を計測し、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρuを測定し、次に蛍光X線法を用いて未知試料uの蛍光X線強度Fuを測定し、未知試料uの膜厚Tu(=Fu/(α・ρu))を算出する。

請求項（抜粋）：

基板上に薄膜が形成され、薄膜の膜厚および密度が未知で、基板および薄膜の構成物質が既知である未知試料uの膜厚測定方法であって、未知試料uと同種の物質で構成され、X線反射率法によって膜厚測定可能な標準試料cを用意する工程と、X線反射率法を用いて、X線入射角度の変化に対する標準試料cのX線反射率曲線を計測し、該曲線の干渉周期から膜厚Tcを、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρcをそれぞれ測定する工程と、蛍光X線法を用いて、標準試料cの蛍光X線強度Fcを測定する工程と、標準試料cの感度係数αを次式(1)から算出する工程と、 α = Fc/(ρc・Tc) ...(1)X線反射率法を用いて、X線入射角度の変化に対する未知試料uのX線反射率曲線を計測し、該曲線の全反射臨界角度から薄膜の密度ρuを測定する工程と、蛍光X線法を用いて、未知試料uの蛍光X線強度Fuを測定する工程と、未知試料uの膜厚Tuを次式(2)から算出する工程と、 Tu = Fu/(α・ρu) ...(2)を含むことを特徴とする膜厚測定方法。

IPC (3件)：

G01B 15/02 ,  G01N 23/207 ,  G01N 23/223

FI (3件)：

G01B 15/02 D ,  G01N 23/207 ,  G01N 23/223