特許
J-GLOBAL ID：200903099627055783
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-110563
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029182
出願日： 1993年05月12日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 遮光部の幅が透光部の幅よりも大きな周期性パターンの解像度、及び焦点深度を改善する。【構成】 光源1からの照明光を光束分割系20、21で分割し、フライアイレンズ40、41を介してレチクル9を傾斜照明する。レチクル9にはストレージノードのような遮光部の幅が透光部の幅よりも大きな周期性パターン10が設けられている。ウェハホルダー14を介してウェハステージ上に設けられたウェハ13には所定量だけ難溶化されたレジストが塗布されている。パターン10を投影光学系11を介してウェハ13上に露光する際、露光中にウェハ13を投影光学系の光軸方向に振動あるいは移動させる。
請求項（抜粋）：
遮光部と透光部とを有し、かつ該遮光部の幅が該透過部の幅より大きい周期パターンが形成されたマスクを所定の入射角で斜め方向から照明する照明光学系と投影光学系とを有する露光装置を用いて、表面が難溶化処理された感光物質が塗布された被露光物上に前記周期性パターンの像を前記投影光学系を介して形成する露光方法であって、前記周期性パターンの前記照明光学系の内におけるフーリエ変換面もしくはその共役面上で前記照明光学系の光軸から偏心し、かつ該光軸を含まない領域を通過した光束により前記周期パターンを照明する第1工程と;前記第1工程による前記周期パターンの照明中に、前記周期性パターンの像と前記被露光物とを前記投影光学系光軸方向に関して相対的に移動あるいは振動させる第2工程とを有することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
