特許
J-GLOBAL ID:200903099630329754

レーザを集束するための方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-099858
公開番号(公開出願番号):特開2000-312985
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2000年11月14日
要約:
【要約】【課題】 レーザ源および光路の変動に関わらず、被加工品に対する焦点の位置を正確に調節する。【解決手段】 レーザを被加工品に対して集束するための方法は、(a)レーザビームを発生する工程と、(b)該レーザビームを焦点に集束することにより、プラズマを形成する工程と、(c)該集束されたレーザビームによって形成される該プラズマの強度を検出する工程と、(d)該プラズマの該検出された強度に応じて、該被加工品に対する該焦点の位置を調節する工程と、を包含する。
請求項(抜粋):
レーザを被加工品に対して集束するための方法であって、(a)レーザビームを発生する工程と、(b)該レーザビームを焦点に集束することにより、プラズマを形成する工程と、(c)該集束されたレーザビームによって形成される該プラズマの強度を検出する工程と、(d)該プラズマの該検出された強度に応じて、該被加工品に対する該焦点の位置を調節する工程と、を包含する、方法。
IPC (3件):
B23K 26/04 ,  B23K 26/00 ,  H05H 1/00
FI (4件):
B23K 26/04 C ,  B23K 26/00 P ,  B23K 26/00 M ,  H05H 1/00 A

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