特許

J-GLOBAL ID：200903099631191926

ガス測定装置

発明者： 赤丸 久光
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184667
公開番号（公開出願番号）：特開2001-013099
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 再現性を低下させることなく測定間隔を短縮する。【解決手段】 120秒間、酸化物半導体装置を備えたセンサセルにサンプルガスを供給する(予備測定)。360秒間、センサセルにゼロガスを供給する。酸化物半導体センサの電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値Rbに近づく。その後、60秒間、サンプルガスをセンサセルに供給すると準安定ピーク抵抗値Rsが得られる(実測定)。実測定での準安定ベース抵抗値Rbと準安定ピーク抵抗値Rsに基づいて定量測定を行なう。

請求項（抜粋）：

1つ又は複数の酸化物半導体センサが配置されたセンサ部と、前記センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス供給手段と、前記センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供給手段と、前記センサ部にサンプルガスを供給した後、そのサンプルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプルガスを前記センサ部に供給するように前記サンプルガス供給手段の動作を制御する制御部と、を備え、1回目のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時のベース抵抗値と2回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵抗値に基づいて定量測定を行なうことを特徴とするガス測定装置。

IPC (3件)：

G01N 27/12 ,  G01N 1/00 ,  G01N 1/00 101

FI (3件)：

G01N 27/12 A ,  G01N 1/00 C ,  G01N 1/00 101 S

Fターム (9件)：

2G046AA01 ,  2G046AA11 ,  2G046AA13 ,  2G046AA19 ,  2G046AA21 ,  2G046AA28 ,  2G046BG02 ,  2G046DC04 ,  2G046EB01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭60-228949