特許

J-GLOBAL ID：200903099636651712

平版印刷版用支持体の製造方法および製造装置

発明者： 久保田 洋夫 ,  澤田 宏和 ,  上杉 彰男
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091227
公開番号（公開出願番号）：特開2002-172870
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年06月18日
要約：

【要約】【課題】 デスマット処理工程における酸処理工程において、酸処理に使用する酸性溶液の濃度を所定濃度に設定し、平版印刷版用支持体を安定して製造ための製造装置を提供する。【解決手段】 少なくとも、デスマット処理槽4と、循環槽5とを有し、循環槽5とデスマット処理槽4とが少なくとも一対の送液系配管7a,7bで連結され、循環システムを具備し、循環槽5に、少なくとも、酸性溶液の電気伝導度および比重を制御して、酸性溶液の濃度を制御するための制御手段と、液供給手段と、が設けられており、前記制御手段が、前記電気伝導度については設定値の±15%の範囲に、および、前記比重については設定値の±10%の範囲に、それぞれ実測値が含まれるように、前記液供給手段から濃硫酸および/または水を供給することにより、酸性溶液の濃度を制御する手段であることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造装置である。

請求項（抜粋）：

少なくとも、酸性溶液により酸処理するためのデスマット処理槽と、前記酸性溶液を貯留する循環槽とを有し、該循環槽と前記デスマット処理槽とが少なくとも一対の送液系配管で連結されており、酸性溶液が前記送液系配管のうちの一方を通して前記循環槽から前記デスマット処理槽に送液され、該デスマット処理槽内でアルミニウム合金板を酸処理し、酸処理後の酸性溶液が他方の前記送液系配管を通して前記循環槽に送液される循環システムを具備し、さらに前記循環槽に、少なくとも、酸性溶液の電気伝導度および比重を制御して、酸性溶液の濃度を制御するための制御手段と、濃硫酸および/または水を供給する液供給手段と、が設けられており、前記制御手段が、前記電気伝導度については設定値の±15%の範囲に、および、前記比重については設定値の±10%の範囲に、それぞれ実測値が含まれるように、前記液供給手段から濃硫酸および/または水を供給することにより、酸性溶液の濃度を制御する手段であることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造装置。

IPC (9件)：

B41N 3/03 ,  B41N 1/08 ,  C23F 1/36 ,  C23G 1/12 ,  C23G 1/22 ,  C25D 11/16 301 ,  C25F 3/04 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/09 501

FI (9件)：

B41N 3/03 ,  B41N 1/08 ,  C23F 1/36 ,  C23G 1/12 ,  C23G 1/22 ,  C25D 11/16 301 ,  C25F 3/04 D ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/09 501

Fターム (38件)：

2H025AA12 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AB03 ,  2H025DA20 ,  2H025DA36 ,  2H096AA06 ,  2H096CA01 ,  2H096CA03 ,  2H114AA04 ,  2H114AA14 ,  2H114DA04 ,  2H114EA02 ,  2H114EA09 ,  2H114FA04 ,  2H114GA06 ,  2H114GA08 ,  2H114GA09 ,  4K053PA10 ,  4K053QA03 ,  4K053RA05 ,  4K053RA14 ,  4K053RA21 ,  4K053SA03 ,  4K053SA04 ,  4K053SA06 ,  4K053TA10 ,  4K053YA02 ,  4K053YA03 ,  4K053YA30 ,  4K057WA05 ,  4K057WB05 ,  4K057WE21 ,  4K057WE22 ,  4K057WG01 ,  4K057WG02 ,  4K057WG03 ,  4K057WN10