カラーフイルタ製造方法およびカラーフイルタ製造用の電着基板

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-277773
公開番号（公開出願番号）：特開平5-119209
出願日： 1991年10月24日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：

【要約】【目的】液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等に用いられる高解像度のカラーフィルタを効率よく得ることのできるカラーフィルタの製造方法および電着基板を提供する。【構成】電着基板上に形成されたN型光半導体層に、第m色のカラーフィルタ層のみに透過可能な色光を照射して第m色のカラーフィルタ層上に位置する部分に光メモリー性を発現させ、この照射部分に第m色に対応する電着材を電着して第m色に対応する単色フィルタを形成し、これを繰り返すことによりM色からなる多色カラーフィルタを前記N型光半導体層上に形成し、この多色カラーフィルタを液晶パネル用の透明基板上に転写するとともに、多色カラーフィルタ上に透明電極層を形成する。

請求項（抜粋）：

透明基板上にM色(Mは2以上の整数)以上の多色カラーフィルタ層を設け、この多色カラーフィルタ層上に透明導電物質層とN型光半導体層を積層して電着基板を形成する第1の工程と、前記多色カラーフィルタ層のうち第m色(mは2以上M以下の整数)のカラーフィルタ層のみに透過可能な色光を前記透明基板側から前記電着基板に照射して前記N型光半導体層のうち第m色のカラーフィルタ層上に位置する部分に導電性を発現させながら、あるいは発現させた後、前記電着基板を前記第m色に対応する電着浴に浸漬して色フィルタ成分を電着し洗浄乾燥して、第m色に対応する単色フィルタを第m色のカラーフィルタ層上に位置する前記N型光半導体層上に形成することをM回繰り返しM色からなる多色カラーフィルタを前記N型光半導体層上に形成する第2の工程と、液晶パネル用の透明基板上に、前記N型光半導体層上に形成した前記多色カラーフィルタを転写し、転写した該多色カラーフィルタ上に透明電極層を形成する第3の工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。

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